摘要::臺積電芯片,1nm工藝,EUV光刻【手機(jī)中國新聞】芯片越來越精微,許多人認(rèn)為摩爾定律將來不久就會時效。不外,芯片廠商仍然在不絕摸索物理世界的極限,從3nm工藝到2nm工藝,從2nm工藝到1.4nm工藝,再從1.4nm工藝到
【手機(jī)中國新聞】芯片越來越精微,許多人認(rèn)為摩爾定律將來不久就會時效。不外,芯片廠商仍然在不絕摸索物理世界的極限,從3nm工藝到2nm工藝,從2nm工藝到1.4nm工藝,再從1.4nm工藝到1nm工藝,后者被視為摩爾定律的物理極限。
10月31日動靜,據(jù)臺灣《工商時報(bào)》報(bào)道,繼竹科2nm廠之后,臺積電將啟動先導(dǎo)打算,估量最新2nm以下(1nm)制程擬落腳新竹科學(xué)園區(qū)轄下的桃園龍?zhí)秷@區(qū)。
對此,竹科打點(diǎn)局長王永壯回應(yīng)稱,關(guān)于個體廠商機(jī)關(guān)環(huán)境,在廠商公布之前未便透露,但純真以龍?zhí)秷@區(qū)來說,第一期事業(yè)專用區(qū)用地已差不多滿了,第二期主要籌劃為公園、綠地開放空間,將來若有新廠想要進(jìn)駐、設(shè)廠,確實(shí)要展開第三期基地評估籌劃事情。憑據(jù)這個環(huán)境,臺積電已經(jīng)為1nm做籌劃了,正式量產(chǎn)1nm工藝大概要到2027年去了。
而要量產(chǎn)1nm工藝,更先進(jìn)的下一代EUV光刻機(jī)就成為了重中之重。據(jù)悉,ASML的下一代EUV光刻機(jī)試驗(yàn)型號最快來歲出貨,2025年后正式量產(chǎn),這根基在臺積電的節(jié)拍之中。不外,這種EUV光刻機(jī)的售價將到達(dá)4億美元以上。
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