摘要：:臺(tái)積電芯片,1nm工藝,EUV光刻【手機(jī)中國(guó)新聞】芯片越來(lái)越精微，許多人認(rèn)為摩爾定律將來(lái)不久就會(huì)時(shí)效。不外，芯片廠商仍然在不絕摸索物理世界的極限，從3nm工藝到2nm工藝，從2nm工藝到1.4nm工藝，再?gòu)?.4nm工藝到
【手機(jī)中國(guó)新聞】芯片越來(lái)越精微，許多人認(rèn)為摩爾定律將來(lái)不久就會(huì)時(shí)效。不外，芯片廠商仍然在不絕摸索物理世界的極限，從3nm工藝到2nm工藝，從2nm工藝到1.4nm工藝，再?gòu)?.4nm工藝到1nm工藝，后者被視為摩爾定律的物理極限。
臺(tái)積電（圖源網(wǎng)）
10月31日動(dòng)靜，據(jù)臺(tái)灣《工商時(shí)報(bào)》報(bào)道，繼竹科2nm廠之后，臺(tái)積電將啟動(dòng)先導(dǎo)打算，估量最新2nm以下（1nm）制程擬落腳新竹科學(xué)園區(qū)轄下的桃園龍?zhí)秷@區(qū)。
對(duì)此，竹科打點(diǎn)局長(zhǎng)王永壯回應(yīng)稱，關(guān)于個(gè)體廠商機(jī)關(guān)環(huán)境，在廠商公布之前未便透露，但純真以龍?zhí)秷@區(qū)來(lái)說(shuō)，第一期事業(yè)專用區(qū)用地已差不多滿了，第二期主要籌劃為公園、綠地開(kāi)放空間，將來(lái)若有新廠想要進(jìn)駐、設(shè)廠，確實(shí)要展開(kāi)第三期基地評(píng)估籌劃事情。憑據(jù)這個(gè)環(huán)境，臺(tái)積電已經(jīng)為1nm做籌劃了，正式量產(chǎn)1nm工藝大概要到2027年去了。
而要量產(chǎn)1nm工藝，更先進(jìn)的下一代EUV光刻機(jī)就成為了重中之重。據(jù)悉，ASML的下一代EUV光刻機(jī)試驗(yàn)型號(hào)最快來(lái)歲出貨，2025年后正式量產(chǎn)，這根基在臺(tái)積電的節(jié)拍之中。不外，這種EUV光刻機(jī)的售價(jià)將到達(dá)4億美元以上。
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